Технологія сухого травлення - один з ключових процесів. Сухе трави - ключовий матеріал у виробництві напівпровідників та важливе джерело газу для травлення в плазмі. Його продуктивність безпосередньо впливає на якість та продуктивність кінцевого продукту. У цій статті в основному поділяється те, що є загальноприйнятими травленнями в процесі сухого травлення.
Гази на основі фтору: наприкладВуглецевий тетрафторид (CF4), Hexafluothane (C2F6), трифторометан (CHF3) та перфторопропан (C3F8). Ці гази можуть ефективно генерувати летючі фториди під час травлення кремнієвих та кремнієвих сполук, тим самим досягаючи видалення матеріалу.
Гази на основі хлору: такі як хлор (CL2),Борон трихлорид (Bcl3)і кремній тетрахлорид (sicl4). Гази на основі хлору можуть забезпечити іони хлориду під час процесу травлення, що допомагає покращити швидкість травлення та селективність.
Гази на основі бромів: такі як бром (BR2) та йодид брому (IBR). Гази на основі брому можуть забезпечити кращі показники травлення в певних процесах травлення, особливо при травленні твердих матеріалів, таких як карбід кремнію.
Гази на основі азоту та кисню: такі як трифторид азоту (NF3) та кисень (O2). Ці гази зазвичай використовуються для регулювання умов реакції в процесі травлення для поліпшення селективності та спрямованості травлення.
Ці гази досягають точного травлення поверхні матеріалу за допомогою поєднання фізичного розпилення та хімічних реакцій під час травлення в плазмі. Вибір травлення газу залежить від типу матеріалу, який слід травтувати, вимоги селективності травлення та бажаної швидкості травлення.
Час посади: лютий-08-2025
