Технологія сухого травлення є одним з ключових процесів. Газ для сухого травлення є ключовим матеріалом у виробництві напівпровідників і важливим джерелом газу для плазмового травлення. Його характеристики безпосередньо впливають на якість та експлуатаційні характеристики кінцевого продукту. У цій статті в основному розповідається про те, які гази для травлення зазвичай використовуються в процесі сухого травлення.
Гази на основі фтору: такі якчотирифторид вуглецю (CF4), гексафторетан (C2F6), трифторметан (CHF3) та перфторпропан (C3F8). Ці гази можуть ефективно генерувати леткі фториди під час травлення кремнію та кремнієвих сполук, тим самим забезпечуючи видалення матеріалу.
Гази на основі хлору: такі як хлор (Cl2),трихлорид бору (BCl3)і тетрахлорид кремнію (SiCl4). Гази на основі хлору можуть забезпечити іони хлориду під час процесу травлення, що допомагає покращити швидкість травлення та селективність.
Гази на основі брому: такі як бром (Br2) та йодид брому (IBr). Гази на основі брому можуть забезпечити кращу ефективність травлення в певних процесах травлення, особливо під час травлення твердих матеріалів, таких як карбід кремнію.
Гази на основі азоту та кисню: такі як трифторид азоту (NF3) та кисень (O2). Ці гази зазвичай використовуються для регулювання умов реакції в процесі травлення з метою покращення селективності та спрямованості травлення.
Ці гази забезпечують точне травлення поверхні матеріалу завдяки комбінації фізичного розпилення та хімічних реакцій під час плазмового травлення. Вибір травильного газу залежить від типу матеріалу, що підлягає травленню, вимог до селективності травлення та бажаної швидкості травлення.
Час публікації: 08 лютого 2025 р.
